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坩埚炉，气氛炉在操作过程中难免不会出现问题，然而合理正确的使用坩埚炉和气氛炉可以减少故障的发生率，使电炉处于更好性能，延长电炉的使用寿命。
1、在坩埚炉和气氛炉使用前，应编制使用维护操作规程，并且严格按照规则操作，有专门人员不定期检查落实情况。
2、坩埚炉，气氛炉头一次使用后，检查炉表温度和炉子温度是否过高、加热体是否存在过热烧断、温度不均或发白等现象。对于三相高温电炉，以及电阻炉容量超过100kW时，每相、每一个加热区都应安装有电流表，发现炉温与仪表指示不正常，及时分析处理。
3、不能超负荷使用没备，在额定功率左右使用电炉。
4、在使用坩埚炉和气氛炉前，先检查加热材料是否适合加热，对于不适合的不要加热，比如容易产生液体，腐蚀性气体的材料不要加热。
坩埚的使用注意事项：
1、坩埚可在1450度以下使用，分透明和不透明两种。用电弧法制的半透明坩埚是拉制大直径单晶硅，发展大规模集成电路必不可少的基础材料。当今，世界半导体工业发达国家已用此坩埚取代了小的透明坩埚。他具有高纯度、耐温性强、尺寸大精度高、保温性好、节约能源、质量稳定等优点。塑性成型生产工艺生产周期是比较长的，而且劳动强度较大，工效低，污染也是相对比较大的，但是这种生产工艺投资少，所以国内还是大部分在采用这种生产工艺。
2、石英质脆，易破，使用时要注意。
3、除HF外，普通稀无机酸可用作清洗液。国内常用拉制单晶硅用石英坩埚18英寸和20英寸也有厂家使用22及以上的坩埚。目前国内坩埚生产厂家生产的18和20英寸坩埚技术都比较成熟。其生产使用原料石英砂主要由美国进口。国内产的石英砂纯度都达不到其要求。其原料里杂质在生产时高温熔制过程中产生黑点气泡等对拉制单晶硅时其稳定性都有一定影响。其原料里杂质在生产时高温熔制过程中产生黑点气泡等 对拉制单晶硅时其稳定性都有一定影响。
4、不能和HF接触，高温时，极易和苛性碱及碱金属的碳酸盐作用。
